Wprowadzenie do zaawansowanego sprzętu do integracji utleniania
Zaawansowany sprzęt do integracji utleniania to mobilny i stacjonarny zintegrowany system obróbki katalitycznej utleniania UV, znany ze swojej wydajnej i stabilnej wydajności, szerokiego zastosowania, łatwej instalacji i uruchomienia oraz kompaktowej konstrukcji. Sprzętnadaje się do różnych zastosowań w oczyszczaniu ścieków zawierających zanieczyszczenia organiczne lub jony metali ciężkich, a w zależności od różnych właściwości ścieków materiał składowy jest starannie dobierany i optymalizowany.

Zaawansowany sprzęt do integracji utleniania został starannie zaprojektowany, aby zoptymalizować wszystkie parametry operacyjne, wspierać w pełni automatyczną pracę i można go dostosować do pół-ręczny lub w pełni ręczny tryb pracy w zależności od aktualnych potrzeb. Jej główny element lampy UV są zoptymalizowane pod względem mocy i wyboru, co pozwala zaoszczędzić ponad 80% całkowitej mocy lamp UV w porównaniu z tradycyjnymi systemami oczyszczania ścieków UV, co znacznie zmniejsza koszty operacyjne i inwestycyjne. Ponadto zmniejszenie liczby lamp UV znacznie zmniejsza również złożoność konserwacji systemu.

Zaawansowany sprzęt do integracji utleniania
Sercem zaawansowanej instalacji integracji utleniania jest system fotokatalityczny w ultrafiolecie, uzupełniony powiązanymi pompami, przyrządami pomiarowymi, elektronicznymi systemami sterowania i elementami pomocniczymi, takimi jak zawory i rury.

Zaawansowane funkcje sprzętu do integracji utleniania
Wdrażaj innowacyjne procesy, aby spełnić różne standardy środowiskowe.
Szeroki zakres zastosowań: oczyszczanie różnych ścieków organicznych i ścieków zawierających jony metali ciężkich bez szczególnych ograniczeń.
Modułowa konstrukcja, łatwa w montażu i demontażu, oszczędza miejsce, skraca czas budowy.
Stabilność systemu, oszczędność energii, wysoki stopień automatyzacji, upraszczają proces obsługi.
Wygodna konserwacja i zarządzanie, redukują koszty inwestycyjne i operacyjne.
Nie ma ograniczeń co do ładunku substancji zanieczyszczających, a wpływnaniego mają jedynie koszty operacyjne.

Zaawansowane pole zastosowań sprzętu do integracji utleniania
Sprzętnadaje się do oczyszczania różnych zanieczyszczeń organicznych i ścieków zawierających jony metali ciężkich i może bezpośrednio oczyszczać fosfor-zawierających ścieki w celu spełnienianorm odprowadzania. Jednocześnie w przypadku ścieków zawierających zanieczyszczenia organiczne sprzęt może również poprawić ich właściwości biochemiczne w celu późniejszego oczyszczenia.

Azaawansowane procesy utleniania (AOP) technologia, zwana także technologią głębokiego utleniania, charakteryzuje się wytwarzaniem wolnych rodników o dużej zdolności utleniania (rodnik hydroksylowy (·OH), rodnik siarczanowy (WIĘC-4 ·) i anionorodnik ponadtlenkowy (O-2 ·)itp.). Jest to metoda oksydacyjnego rozkładu materii organicznej pod wpływem wysokiej temperatury i ciśnienia, prądu elektrycznego, światło lub/i katalizator. W zależności od sposobu wytwarzania wolnych rodników i różnych warunków reakcji, można je podzielićna utlenianie fotokatalityczne, utlenianiena mokro, utlenianie akustochemiczne, utlenianie ozonem, utlenianie elektrochemiczne, utlenianie Fentona i tak dalej.

UV/Fenton process to technologia głębokiego utleniania, czyli reakcji łańcuchowej pomiędzy Fe2+ a H2O2 służy do katalizowania tworzenia wolnych rodników OH. Wolne rodniki OH mają silne właściwości utleniające i mogą utleniać różne substancje toksyczne i trudne-Do-rozkładają związki organiczne w celu usunięcia zanieczyszczeń. Szczególnienadaje się do utleniania ścieków organicznych, które trudno ulegają biodegradacji lub ogólne utlenianie chemiczne jest trudne. Główne czynniki wpływającena oczyszczanie odcieków składowiskowych wg UV/Procedura Fentonass to pH, dawka H2O2 i dawka soli żelaza.

Tylko z punktu widzenia aktualnej praktyki inżynierskiej, UV/Fentona mMetoda jestnajbardziej obiecująca spośród zaawansowanych metod utleniania. Główne zalety to: efekt redukcji wartości ChZT jest dobry, a kosztniski. Z samego punktu widzenia kosztów operacyjnych jest on jedynie wyższy lub równy UV/TiO₂ metoda. Znacznieniższyniż UV/O₃(w tym O₃ utlenianie katalityczne) lub metody utleniania PMS. Dlategona całym świecie wśród zaawansowanych metod utleniania tylko Fenton lub UV/Fenton ma więcej udanych zastosowań w dziedzinie oczyszczania ścieków, podczas gdy inne zaawansowane technologie utleniania mają mniej pomyślnych spraw ze względuna inwestycje，koszty operacyjne lub inne czynniki.

Główny proces opisano wnastępujący sposób:

Ściekinajpierw trafiają do zbiornika kondycjonującego w celu homogenizacji jakości wody, anastępnie trafiają do kolejnego układu wstępnego oczyszczania w celu wstępnego oczyszczenia. Proces wstępnej obróbki może doprowadzić do demulgacji i usunięcianieprzezroczystej zawiesiny z wody, a jednocześnie obróbka wstępna może również w pewnym stopniu zredukować zanieczyszczenia organiczne w ściekach oraz zmniejszyć koszty i trudność późniejszego oczyszczania.

   Ścieki po podczyszczeniu trafiają do zbiornika pośredniego w celu tymczasowego magazynowania. Ścieki w zbiorniku pośrednim są badane przez wł-liniowy system detekcji wymaganej zawartości substancji zanieczyszczających, a jego parametry stanowią podstawowe parametry układu automatycznego sterowania, umożliwiającego kontrolę dawkowania kolejnych leków. Kontrola dawkowania kolejnych leków, takich jak katalizatory i utleniacze, może być kontrolowana ręcznie lub automatycznie.

Po dozowaniu ścieki w zbiorniku dozującym trafiają do zbiornika utleniania UV w celu oczyszczenia UV. Po oczyszczeniu UV ścieki są odprowadzane do kolejnego basenu zwrotnego pH, dodając zoptymalizowany środek i regulując wartość pH, anastępnie do kolejnego układu wytrącania flokulacyjnego w celu oczyszczenia strącającego. Ścieki po oczyszczeniu strącanym można odprowadzać bezpośrednio.

Po zabiegu skutecznie obniżono zawartość różnych substancji zanieczyszczających, takich jak wartość ChZT czy jonów metali ciężkich. Jeśli wymagane jest późniejsze oczyszczanie biochemiczne, poprawia się biodegradowalność ścieków.