Wprowadzenie do system odparowywania opadającej warstwy

System odparowania opadającego filmu jest wydajnym urządzeniem do zatężania cieczy, szczególnie odpowiednim do obróbki cieplnej-materiały wrażliwe. System opiera sięna pionowym rurowym wymienniku ciepła i zabudowie-w urządzeniu rozprowadzającym folię, tak że płynny materiał tworzy przepływ filmowy w wymienniku ciepła. Zanim płynny materiał dostanie się od góry do rury wymiennika ciepła, jest rozprowadzany przez dystrybutor folii, aby zapewnić przepływ w dół w stanie folii. W procesie przepływu woda jest odparowywana i oddzielana w celu uzyskania stężenia materiału.
 

Skład układu odparowywania opadającej warstwy

System odparowywania opadającej warstwy składa się znastępujących głównych elementów:
Wszystko-grzejnik efektowy: Jako rdzeń systemu odpowiada za ogrzewanie i odparowywanie cieczy.
Każdy separator efektów: używany do oddzielania odparowanego gazu od cieczy.
Podgrzewacz: podgrzej wcześniej płyn surowca do temperatury bliskiej wrzenia, aby poprawić wydajność parowania.
Skraplacz: przekształca odparowaną parę w stan ciekły w celu późniejszej obróbki lub odzysku.
Urządzenie do dystrybucji cieczy (dystrybutor filmów) : zapewnia równomierne rozprowadzenie cieczy materiału w rurze grzewczej, sprzyja efektywnemu przenoszeniu ciepła i zmniejsza ryzyko osadzania się kamienia.
Grupa pomp cieczy zasilającej: łącznie z każdą skuteczną pompą cieczy zasilającej, odpowiedzialną za transport i cyrkulację cieczy zasilającej.
Rura izolacyjna: utrzymać temperaturę materiału i zmniejszyć straty ciepła.
System próżniowy i drenażowy: utrzymuj stan podciśnienia w systemie, aby wykluczyć brak-kondensujący gaz i stężona ciecz.
 

Charakterystyka układu odparowywania opadającej warstwy

1. Wysoka sprawność cieplna: Gdy płynny materiał przepływa cienką warstwą, powierzchnia wymiany ciepła zwiększa się i poprawia się stopień wykorzystania energii cieplnej.
2. Silna zdolność adaptacji: Nadaje się do procesu odparowania cieczy o dużej lepkości.
3. Krótki czasnagrzewania: pomaga zachować wartości odżywcze i smak ciepła-wrażliwych materiałów, takich jak żywność.
4. Elastyczne działanie: Szybka regulacja w zależności od zmian w objętości paszy, dostawie energii, stopniu podciśnienia i stężeniu.
5. Parowanie różnicowe wniskich temperaturach: płyn procesowy przepływa pod działaniem grawitacji, co może spowodować parowanie przyniskiej różnicy temperatur i zmniejszyć ryzyko rozkładu termicznego.
6. Dobre bezpieczeństwo: działanie pod podciśnieniem w celu zapewnienia bezpieczeństwa.
7. Duża wydajność przetwarzania: Może obsługiwać materiały o wysokim stężeniu i wysokiej lepkości.
8. Krótki czas przebywania: ogranicza degradację materiału,nadaje się do stosowaniana gorąco-obróbka wrażliwego materiału.
 

Pole zastosowania systemu odparowywania opadającej warstwy

Systemy odparowywania ze opadającą warstwą znajdują szerokie zastosowanie w przemyśle, zwłaszcza w:
Przemysł spożywczy: Stosowany do zagęszczania produktów mlecznych, soków, miodu i innych produktów spożywczych, parowanie wniskiej temperaturze sprzyja zachowaniunaturalnego smaku i wartości odżywczych żywności.
Przemysł chemiczny: W produkcji produktów chemicznych obejmuje odzyskiwanie rozpuszczalników, oczyszczanie ścieków i zagęszczanie środków chemicznych.

Przebieg procesu

Przebieg procesu w wyparce z opadającym filmem obejmuje głównienastępujące etapy:
Dystrybucja cieczy: Surowa ciecz jest pompowana do górnej rury komory grzewczej wyparki z opadającą warstwą, anastępnie równomiernie rozprowadzana do każdej rury wymiany ciepła poprzez urządzenie rozprowadzające ciecz i tworzące warstwę.
Przepływ filmu: Pod wpływem grawitacji, indukcji podciśnienia i przepływu powietrza ciecz zasilająca tworzy jednolitą warstwę cieczyna wewnętrznej ściance rury wymiany ciepła i przepływa od góry do dołu.
Ogrzewanie i parowanie: Podczas procesu przepływu ciecz zasilająca jest podgrzewana i odparowywana przez płaszcz-boczne medium grzewcze, a wytworzona para wodna i faza ciekła wspólnie dostają się do komory separacyjnej parownika.
Gaz-separacja cieczy: W komorze separacyjnej para i skoncentrowana ciecz są oddzielane, skoncentrowana ciecz jest odprowadzana z dna, a para może być przesłana do skraplacza w celu skroplenia lub wykorzystana jako czynnik grzewczy wnastępnym parowniku.